特許
J-GLOBAL ID：200903098081676190
半導体集積回路設計用CAD装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高矢 諭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-057928
公開番号（公開出願番号）：特開2000-259685
出願日： 1999年03月05日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：
【要約】【課題】 設計作業の進捗や、設計ツールによる処理の進捗に応じ、設計ツールを起動したり終了したりし、設計者の該設計支援処理完了待ちや、設計ツールを起動するための手間を削減し、同時に設計ツールのリソース利用条件を改善してその動作速度の向上などを図る。【解決手段】 デザインフロー・マネージャ44は、版管理対象データ10、処理対象回路ブロック定義データ12、デザインフロー定義データ14、及びリソース定義データ16に基づいて、ブロック回路データ毎に支援処理可能な設計ツールを判定する。該判定結果に基づいて、デザインフロー・マネージャ44は、起動あるいは終了する設計ツールを決定する。又、設計ツール起動/終了デーモン46や設計ツール起動/終了ラッパ48により、起動や終了がなされる。
請求項（抜粋）：
設計過程の回路を示すデータに対して、複数の設計ツールによる設計支援処理を行うようにした半導体集積回路設計用CAD装置において、前記設計過程回路を複数の回路ブロックに分割し、該回路ブロック毎の回路データを記憶する記憶装置と、前記回路ブロック毎の設計状態を示すデータを記憶する記憶装置と、前記回路ブロック間の設計制約条件を示すデータを記憶する記憶装置と、前記設計ツール毎のリソース利用条件を示すデータを記憶する記憶装置と、前記設計状態データ、前記設計制約条件データ、及び前記設計ツール・リソース利用条件データに基づいて、前記ブロック回路データ毎に支援処理可能な設計ツールを判定するデザインフロー・マネージャ処理部と、該デザインフロー・マネージャ処理部の判定結果に基づいて、前記設計ツールを起動あるいは終了する設計ツール起動/終了管理処理部と、前記設計ツールによる処理の進行や、設計者の設計作業の進捗に応じて前記設計状態データを更新する設計ツールプロセスモニタとを備えるようにしたことを特徴とする半導体集積回路設計用CAD装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G06F 15/60 652 R
, H01L 21/82 C
5B046AA08
, 5B046BA03
, 5B046BA08
, 5B046CA08
, 5F064DD02
, 5F064DD07
, 5F064DD20
, 5F064HH01
, 5F064HH06
, 5F064HH09
, 5F064HH11
, 5F064HH17
