特許
J-GLOBAL ID：200903098102163759
識別票つきのフォトマスク基板及びフォトマスク及びその識別方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-300921
公開番号（公開出願番号）：特開2005-070490
出願日： 2003年08月26日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：
【課題】フォトマスクの製造管理を行うために、処理過程及びマスクの品質に影響を与えることなく、フォトマスク基板に短時間で直接加工を行うことができ、作製した視認性の高い識別票つきのフォトマスク基板及びフォトマスクと、そこに書きこんだ情報を効率的に識別する方法を提供すること。【解決手段】フォトマスクを製造する工程内で、フォトマスク基板の識別及び管理等に用いる情報パターンからなる識別票を有するフォトマスク基板において、前記識別票が、フォトマスク基板の表面以外の内部領域に、超短パルスレーザの二光束干渉露光を用いた直接加工により、回折格子からなる識別票の書き込みをおこなった識別票つきのフォトマスク基板。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
フォトマスクを製造する工程内で、フォトマスク基板の識別及び管理等に用いる情報パターンからなる識別票を有するフォトマスク基板において、前記識別票が、フォトマスク基板の表面以外の内部領域に直接加工により回折格子の書き込みをおこなったことを特徴とする識別票つきのフォトマスク基板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 R
, H01L21/30 502P
