特許
J-GLOBAL ID：200903098109256752

付着汚れ除去性光触媒薄膜、積層体及びその形成方法

発明者：
辻道 万也

辻道 万也 について

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蓮生 博人

蓮生 博人 について

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小林 秀紀

小林 秀紀 について

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佐伯 義光

佐伯 義光 について


出願人/特許権者：
東陶機器株式会社

東陶機器株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-118406
公開番号（公開出願番号）：特開2000-026138
出願日： 1999年04月26日
公開日（公表日）： 2000年01月25日
要約：
【要約】【課題】 基材表面上に高い平滑性、硬度を有し、光励起により親水性が増大する特性、及び有機物に対する分解力を有することを特徴とする付着汚れ除去性光触媒薄膜を、基材との界面にバインダー層を必要とせず、かつ製膜に要する加熱温度をより低温で作製する。【解決手段】 金属アルコキシドを含む溶液を基材表面に配設し、基材表面の熱、または基材の低温加熱処理による熱により金属アルコキシドを熱分解、重合させ、基材表面に付着汚れ除去性光触媒薄膜を形成する。
請求項（抜粋）：
高い平滑性、硬度を有し、光励起により親水性が増大する特性、及び有機物に対する分解力を有することを特徴とする付着汚れ除去性光触媒薄膜。
IPC (7件)：
C03C 17/27 ,  A01N 59/16 ,  B01D 53/86 ,  B01J 35/02 ZAB ,  B05D 5/00 ,  B32B 9/00 ,  C03C 17/25
FI (7件)：
C03C 17/27 ,  A01N 59/16 Z ,  B01J 35/02 ZAB J ,  B05D 5/00 H ,  B32B 9/00 A ,  C03C 17/25 A ,  B01D 53/36 G
引用特許：
審査官引用 (5件)
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