特許
J-GLOBAL ID:200903098128690471
排水処理装置および排水処理方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
山崎 宏
, 前田 厚司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-053649
公開番号(公開出願番号):特開2006-231295
出願日: 2005年02月28日
公開日(公表日): 2006年09月07日
要約:
【課題】 過酸化水素を含有する窒素排水の処理効率を向上できると共に、コンパクト化とランニングコスト低減を実現できる排水処理装置を提供する。 【解決手段】 この排水処理装置は、過酸化水素を含有する窒素排水を、マイクロナノバブル反応槽18においてマイクロナノバブルで処理することによって、次段の脱窒槽3と硝化槽11での微生物の活性度を高めることにより、微生物処理効率を向上でき、脱窒槽3と硝化槽11の規模を縮小可能となる。したがって、この排水処理装置によれば、過酸化水素を含有する窒素排水の処理効率を向上でき、排水処理のためのイニシャルコストを低減できて、ランニングコストも低減できる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
過酸化水素を含有する窒素排水をマイクロナノバブルで処理するマイクロナノバブル処理工程と、
上記窒素排水を上記マイクロナノバブル処理工程で処理した被処理水を、液中膜を用いて微生物処理する微生物処理工程とを備えることを特徴とする排水処理方法。
IPC (6件):
C02F 3/34
, B01D 65/02
, C02F 1/44
, C02F 1/74
, C02F 3/12
, C02F 3/20
FI (6件):
C02F3/34 101B
, B01D65/02 520
, C02F1/44 K
, C02F1/74 B
, C02F3/12 S
, C02F3/20 Z
Fターム (49件):
4D006GA07
, 4D006HA01
, 4D006HA41
, 4D006HA93
, 4D006JA71
, 4D006KA01
, 4D006KA44
, 4D006KA52
, 4D006KA55
, 4D006KA56
, 4D006KA67
, 4D006KB22
, 4D006KB23
, 4D006KB30
, 4D006KC14
, 4D006KC16
, 4D006KD26
, 4D006MA01
, 4D006MA03
, 4D006MB02
, 4D006PA01
, 4D006PB08
, 4D006PC63
, 4D028AB00
, 4D028BC03
, 4D028BC14
, 4D028BC19
, 4D028BC28
, 4D028BD06
, 4D028BD17
, 4D028CA05
, 4D028CB01
, 4D029AA01
, 4D029AB01
, 4D029AB05
, 4D029CC06
, 4D040BB02
, 4D040BB12
, 4D040BB54
, 4D040BB91
, 4D050AA13
, 4D050AB35
, 4D050AB37
, 4D050BB01
, 4D050BD02
, 4D050BD03
, 4D050BD06
, 4D050CA09
, 4D050CA17
引用特許:
出願人引用 (5件)
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アンモニア含有排水の処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-117410
出願人:新日本製鐵株式会社
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特許第3467671号公報
-
特許第3095620号公報
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ナノバブルの利用方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-288963
出願人:独立行政法人産業技術総合研究所
-
ナノ気泡の生成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-145325
出願人:独立行政法人産業技術総合研究所
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審査官引用 (3件)
-
ウェーハ加工工程排水の処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-157153
出願人:信越半導体株式会社
-
排水処理システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-026057
出願人:鈴木産業株式会社
-
排水処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-044295
出願人:三菱レイヨン株式会社
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