特許

J-GLOBAL ID：200903098139735035

高誘電体膜とその形成方法

発明者： 高梨 昌二 ,  高塚 裕二
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
代理人 (1件)： 河備 健二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-225325
公開番号（公開出願番号）：特開2008-053281
出願日： 2006年08月22日
公開日（公表日）： 2008年03月06日
要約：

【課題】MOD法によるペロブスカイト型誘電物質からなる高誘電体膜の形成において、クラックの発生がなく、膜の収縮が小さく、かつ誘電特性に優れた誘電体膜とその形成方法を提供する。【解決手段】基板上に、下記の工程(1)、(2)を繰返し行うことによって、3層以上積層してなる多層誘電体薄膜を作製した後、次いで、得られた多層誘電体薄膜に本焼成を行うことを特徴とする。 工程(1):基板上に、混合溶剤に、アルカリ土類金属元素と、チタン、スズ、及びジルコニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属元素を含有する塗布組成物からなる塗布液を、一回の塗布によって形成される誘電体薄膜の膜厚が仮焼成後で30〜120nmとなるに十分な量だけ塗布した後、乾燥させる。 工程(2):基板上に形成された誘電体薄膜を、酸素雰囲気中、550〜800°Cの温度で加熱し、仮焼成する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基板上に、下記の工程(1)、(2)を繰返し行うことによって、3層以上積層してなる多層誘電体薄膜を作製した後、次いで、得られた多層誘電体薄膜に本焼成を行うことを特徴とする高誘電体膜の製造方法。 工程(1):基板上に、エーテル系溶剤及び/又はアルコール系溶剤と、カルボン酸系溶剤と、エステル系溶剤とからなる混合溶剤に、バリウム、ストロンチウム、マグネシウム及びカルシウムからなる群から選ばれる少なくとも1種のアルカリ土類金属元素と、チタン、スズ、及びジルコニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属元素とを含有する塗布組成物からなる塗布液を、一回の塗布によって形成される誘電体薄膜の膜厚が仮焼成後で30〜120nmとなるに十分な量だけ塗布した後、乾燥させる。 工程(2):基板上に形成された誘電体薄膜を、酸素雰囲気中、550〜800°Cの温度で加熱し、仮焼成する。

IPC (5件)：

H01L 21/316 ,  H01L 21/824 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/822 ,  H01L 27/04

FI (3件)：

H01L21/316 P ,  H01L27/10 651 ,  H01L27/04 C

Fターム (19件)：

5F038AC15 ,  5F038AC16 ,  5F038AC18 ,  5F038EZ11 ,  5F038EZ17 ,  5F038EZ20 ,  5F058BA04 ,  5F058BA06 ,  5F058BA11 ,  5F058BC03 ,  5F058BF46 ,  5F058BH03 ,  5F058BJ04 ,  5F083AD21 ,  5F083GA27 ,  5F083JA13 ,  5F083JA38 ,  5F083PR23 ,  5F083PR33

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平1-308801号公報(第1頁)
  
• 特開平1-100024号公報(第1頁)
  
• Ba1-xSrxTiO3薄膜形成用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-144537   出願人：三菱マテリアル株式会社