特許

J-GLOBAL ID：200903098195357990

ビ-ム形状補正光学系および描画装置

発明者： 飯塚 隆之
出願人/特許権者： 旭光学工業株式会社
代理人 (1件)： 金井 英幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-001579
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199848
出願日： 1999年01月07日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】 ビーム形状の補正が容易に行えるビーム形状補正光学系を提供する。【解決手段】 一方向にのみ倍率を有する2つのアナモフィックビームエキスパンダ111、112と、それらを、その倍率方向が回転可能な形態で保持する保持部121、122によって、ビーム形状補正光学系を構成する。

請求項（抜粋）：

第1入射端面を有し、その第1入射端面に第1所定方向から入射された平行ビームの径を、前記第1所定方向と直交する第1倍率方向にのみm倍する第1アナモフィックビームエキスパンダと、この第1アナモフィックビームエキスパンダを、前記第1入射端面を通り、前記第1所定方向と平行な軸である第1回転軸の周りで回転可能な形態で保持する第1保持部と、第2入射端面を有し、その第2入射端面に第2所定方向から入射された平行ビームの径を、前記第2所定方向と直交する第2倍率方向にのみn倍する第2アナモフィックビームエキスパンダと、この第2アナモフィックビームエキスパンダを、前記第2入射端面を通り、前記第2所定方向と平行、且つ、前記第1回転軸と同軸に設定された第2回転軸の周りで回転可能な形態で保持する第2保持部とを備えることを特徴とするビーム形状補正光学系。

IPC (5件)：

G02B 13/08 ,  B41J 2/44 ,  G02B 3/06 ,  G02B 13/12 ,  G02B 26/10

FI (5件)：

G02B 13/08 ,  G02B 3/06 ,  G02B 13/12 ,  G02B 26/10 D ,  B41J 3/00 D

Fターム (33件)：

2C362AA21 ,  2C362AA26 ,  2C362AA28 ,  2C362AA29 ,  2C362AA35 ,  2C362AA37 ,  2C362AA38 ,  2C362AA40 ,  2C362AA47 ,  2C362BA86 ,  2H045AA01 ,  2H045CA67 ,  2H045CB02 ,  2H045CB03 ,  2H045DA02 ,  2H045DA04 ,  2H045DA22 ,  2H087KA19 ,  2H087LA26 ,  2H087LA28 ,  2H087PA04 ,  2H087PA17 ,  2H087PB04 ,  2H087QA02 ,  2H087QA05 ,  2H087QA13 ,  2H087QA22 ,  2H087QA25 ,  2H087QA38 ,  2H087QA41 ,  2H087QA46 ,  2H087RA07 ,  2H087RA41

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-294889
  
• ビーム整形光学系および該ビーム整形光学系を備えた露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-112379   出願人：株式会社ニコン
• 特開平4-294889