特許
J-GLOBAL ID：200903098230307879
ビーム照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田中 隆秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-193433
公開番号（公開出願番号）：特開2000-028800
出願日： 1998年07月08日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：
【要約】【課題】 ビームガンから照射されるビームの試料表面への照射方向の調節を容易に行えるようにし且つ前記ビームガンを前記調節した位置から移動させる力が発生しないようにすること。【解決手段】 円筒状のビームガン9の中心軸L2に沿って下端部から下方にビームBを出射する前記ビームガン9と、前記ビームガン9下端部の周囲を囲んで配置され且つ内部に真空チャンバAを形成するチャンバ外壁(2〜4)の上面に鉛直軸L1回りに180°以上回転可能に支持されたビームガン支持部材7であって、前記円筒状のビームガン9の中心軸L2が前記鉛直軸L1に対して傾斜した状態で且つ前記中心軸L2および前記鉛直軸L1の交点Pが形成されるように前記ビームガン9を支持する前記ビームガン支持部材7とから構成されるビーム照射装置。
請求項（抜粋）：
下記の要件(A01)、(A02)を備えたことを特徴とするビーム照射装置、(A01)円筒状のビームガンの中心軸線に沿って下端部から下方にビームを出射する前記ビームガン、(A02)前記ビームガン下端部の周囲を囲んで配置され且つ内部に真空チャンバを形成するチャンバ外壁の上面に鉛直軸線回りに180°以上回転可能に支持されたビームガン支持部材であって、前記円筒状のビームガンの中心軸線が前記鉛直軸線に対して傾斜した状態で且つ前記中心軸線および前記鉛直軸線の交点が形成されるように前記ビームガンを支持する前記ビームガン支持部材。
IPC (3件)：
G21K 5/04
, G01N 1/28
, H01J 37/20
G21K 5/04 A
, H01J 37/20 F
, G01N 1/28 G
, G01N 1/28 F
5C001AA03
, 5C001BB07
, 5C001CC08
