特許

J-GLOBAL ID：200903098302155963

感光性樹脂組成物のパターン加工方法

発明者： 番場 敏夫 ,  竹田 敏郎
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-172478
公開番号（公開出願番号）：特開平9-073176
出願日： 1995年07月07日
公開日（公表日）： 1997年03月18日
要約：

【要約】【構成】 特定の構造のポリアミド、ジアゾキノン化合物からなるポジ型感光性樹脂組成物を基板等に塗布し、プリベークを行い、光照射を行った後、アニオン性界面活性剤を含むアルカリ性水溶液で露光部を溶解除去して、パターンを得る感光性樹脂組成物のパターン加工方法。【効果】 アニオン性界面活性剤を含むアルカリ水溶液で現像すると、現像残り(スカム)が発生せず、非常に高解像度のパターン加工が可能である。

請求項（抜粋）：

下記式(1)で示されるポリアミド、【化1】ジアゾキノン化合物からなるポジ型感光性樹脂組成物を基板等に塗布し、プリベークを行い、光照射を行った後、アニオン性界面活性剤を含むアルカリ性水溶液で露光部を溶解除去して、パターンを得ることを特徴とする感光性樹脂組成物のパターン加工方法。

IPC (5件)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/037 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/037 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/30 569 E

引用特許：

出願人引用 (3件)

• ポジ型感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-165320   出願人：住友ベークライト株式会社
• 特開平3-020743
  
• 特開昭55-138739
  

審査官引用 (3件)

• ポジ型感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-165320   出願人：住友ベークライト株式会社
• 特開平3-020743
  
• 特開昭55-138739