特許

J-GLOBAL ID：200903098394949502

レーザ薄膜形成装置

発明者： 春田 健雄 ,  斧 高一 ,  若田 仁志 ,  津田 睦 ,  斉藤 善夫 ,  難波 敬典 ,  児島 一良 ,  高見 哲也 ,  鈴木 昭弘 ,  笹川 智広 ,  黒田 研一 ,  大石 敏之 ,  和田 幸彦 ,  古川 彰彦 ,  松井 安次 ,  結城 昭正 ,  川原 孝昭 ,  矢部 秀毅 ,  古川 泰助 ,  吉瀬 幸司 ,  三上 登 ,  堀川 剛 ,  蒔田 哲郎 ,  倉本 一雄 ,  藤野 直彦 ,  黒木 洋志 ,  小蒲 哲夫 ,  谷村 純二
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-345584
公開番号（公開出願番号）：特開平6-172981
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年06月21日
要約：

【要約】【目的】 高品質かつより大きな面積の薄膜を、均一な膜質分布で、しかも基板に損傷を与えることなく形成する。【構成】 チャンバ1と、その中に配置されたターゲット5と、ターゲット5にレーザ光を照射するレーザ光源10と、基板ホルダ3とを備えている。ターゲット5にレーザ光が照射されると、プルームが発生し、プルームに含まれる物質が基板ホルダ3に保持された基板2の表面に堆積される。レーザ光源10から出射されるレーザービームは、たとえば遮蔽板4804などを通過することによって所望の断面形状に成形されて、ターゲット5表面により均一な広がりを有する光強度分布をもって照射される。その結果、より均一な活性粒子密度分布を有するプルームが発生する。

請求項（抜粋）：

排気手段を有するチャンバと、前記チャンバ内に配されたターゲットと、前記ターゲットにパルス状のレーザ光を照射するレーザ光照射手段と、レーザ光の照射により前記ターゲットから発生するプルームに含まれる物質を堆積させる基板を保持する基板保持手段と、前記レーザ光照射手段から照射されるレーザ光のビーム断面形状を整形する手段とを備えたレーザ薄膜形成装置。

引用特許：

審査官引用 (14件)

• 特開平3-104861
  
• 特開平3-056670
  
• 特開平3-287760
  
• 特開昭62-174370
  
• 特開昭61-079765
  
• 特開平2-270962
  
• 特開平3-291373
  
• 特開平1-219155
  
• 特開昭64-047859
  
• 特開平4-342493
  
• 特開平2-310363
  
• 特開平3-054104
  
• 特開平1-177367
  
• 特開昭62-178933