レーザ薄膜形成装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：深見久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-345584
公開番号（公開出願番号）：特開平6-172981
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年06月21日
要約：

【要約】【目的】高品質かつより大きな面積の薄膜を、均一な膜質分布で、しかも基板に損傷を与えることなく形成する。【構成】チャンバ1と、その中に配置されたターゲット5と、ターゲット5にレーザ光を照射するレーザ光源10と、基板ホルダ3とを備えている。ターゲット5にレーザ光が照射されると、プルームが発生し、プルームに含まれる物質が基板ホルダ3に保持された基板2の表面に堆積される。レーザ光源10から出射されるレーザービームは、たとえば遮蔽板4804などを通過することによって所望の断面形状に成形されて、ターゲット5表面により均一な広がりを有する光強度分布をもって照射される。その結果、より均一な活性粒子密度分布を有するプルームが発生する。

請求項（抜粋）：

排気手段を有するチャンバと、前記チャンバ内に配されたターゲットと、前記ターゲットにパルス状のレーザ光を照射するレーザ光照射手段と、レーザ光の照射により前記ターゲットから発生するプルームに含まれる物質を堆積させる基板を保持する基板保持手段と、前記レーザ光照射手段から照射されるレーザ光のビーム断面形状を整形する手段とを備えたレーザ薄膜形成装置。

引用特許：

出願人引用 (15件)

特開平1-177367
特開平1-219155
特開平2-221120

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審査官引用 (14件)

特開平3-104861
特開平3-056670
特開平3-287760

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