特許
J-GLOBAL ID：200903098421105460
露光マスクの検査方法および測長箇所を探索するプログラムを記録した記録媒体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-249867
公開番号（公開出願番号）：特開2000-081697
出願日： 1998年09月03日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：
【要約】【課題】 ランダムな回路パターンを持つ半導体集積回路装置の露光マスクであっても、露光マスクの面内寸法の規格保証を、真に保証すべき箇所の寸法によって行え、かつ露光エリアでのパターン寸法のモニタも可能とする露光マスクの検査方法を提供すること。【解決手段】 マスクパターンの寸法の変化に対するレジストパターンの寸法の変化(MEF)を算出し(ST.9)、MEFが大きい箇所を抽出し(ST.10)、MEFが大きい箇所を、露光マスクの面内寸法の規格保証を行う際に測長される測長箇所に指定する(ST.11)ことを特徴としている。
請求項（抜粋）：
露光マスクの寸法変動とレジストの寸法変動との相関曲線の傾きを算出する工程と、前記相関曲線の傾きが大きい箇所を抽出する工程と、前記抽出された相関曲線の傾きが大きい箇所から、前記露光マスクの寸法を測長する測長箇所を選ぶ工程とを具備することを特徴とする露光マスクの検査方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 S
, H01L 21/30 502 V
2H095BB01
, 2H095BD03
, 2H095BD31
