特許

J-GLOBAL ID：200903003299618131

マスクデータ検証装置、マスクデータ作成装置、マスクデータ検証方法、マスクデータ作成方法及び補助パターンマスク作成方法

発明者： 松岡 晃次 ,  三坂 章夫 ,  笹子 勝
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-213681
公開番号（公開出願番号）：特開平8-076348
出願日： 1994年09月07日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：

【要約】【目的】 設計データから所望の領域を選択してリソグラフィ行程で所望の寸法値が得られない箇所を検証抽出し、さらにその箇所を修正することを目的とする。【構成】 設計データから所望の領域を選択してデータを取り込む機能aと、選択した領域の光強度を計算する機能bと、レジストの現像溶解速度を計算する機能cと、前記光強度とレジスト溶解速度によりレジスト形状を計算する機能dと、前記光強度とレジスト形状により所望の寸法値が得られない箇所を検証抽出する。

請求項（抜粋）：

マスクデータ中から検査を行なう領域を選択する検査領域抽出手段と、選択された前記領域の光強度を計算する光強度計算手段と、レジストの現像溶解速度を計算する現像溶解速度計算手段と、前記光強度計算手段及び前記レジスト溶解速度計算手段の結果からレジスト形状を計算する形状計算手段と、前記マスクデータと前記形状計算手段により得られた結果を比較し所望の寸法値が得られない箇所を検証抽出する検証抽出手段とを備えたマスクデータ検証装置。

IPC (4件)：

G03F 1/00 ,  H01L 21/027 ,  H01L 29/78 ,  H01L 21/336

FI (4件)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 502 V ,  H01L 21/30 502 W ,  H01L 29/78 301 Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 図形演算処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-253636   出願人：三菱電機株式会社
• パターン形状の変形方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-213225   出願人：シャープ株式会社
• マスクパタンの設計方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-123331   出願人：日本電信電話株式会社