特許

J-GLOBAL ID：200903098596635500

光触媒膜形成用インキおよび光触媒膜の形成方法

発明者： 山本 秀樹 ,  本城 啓司 ,  田中 勝人 ,  西田 佳弘
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-076832
公開番号（公開出願番号）：特開平11-269414
出願日： 1998年03月25日
公開日（公表日）： 1999年10月05日
要約：

【要約】【課題】光触媒膜を印刷するのに、非常に適した安定したインキであって、形成された膜は光触媒活性が大きく且つ耐摩耗性に優れる光触媒膜形成用インキおよび光触媒膜の形成方法に関する。【解決手段】主成分がTiアルコキシド、Tiアセチルアセトナート、Ti化合物の加水分解および重縮合により形成された酸化チタンのゾルの内の少なくとも1種と、反応の終結した酸化物微粒子から構成されるインキであって、該反応の終結した酸化物微粒子の含有量がインキ主成分の5〜50モル%である光触媒膜形成用インキ。

請求項（抜粋）：

主成分がTiアルコキシド、Tiアセチルアセトナート、Ti化合物の加水分解および重縮合により形成された酸化チタンのゾルの内の少なくとも1種と、反応の終結した酸化物微粒子から構成されるインキであって、該反応の終結した酸化物微粒子の含有量がインキ主成分の5〜50モル%であることを特徴とする光触媒膜形成用インキ。

IPC (7件)：

C09D 11/00 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  C01G 23/04 ,  C01G 23/053 ,  C03C 17/25 ,  C03C 17/34

FI (7件)：

C09D 11/00 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  C01G 23/04 C ,  C01G 23/053 ,  C03C 17/25 A ,  C03C 17/34 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 酸化チタン薄膜形成用組成物及びそれを用いる光触媒構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-085707   出願人：日本曹達株式会社, 東芝ライテック株式会社
• ルチル型酸化チタン(IV)の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-115298   出願人：ポーラ化成工業株式会社
• 親水性コーティング剤及び表面親水性基体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-038899   出願人：株式会社タオ, 株式会社田中転写
• 二酸化チタン薄膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-248457   出願人：神東塗料株式会社