感光性組成物及びパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高月亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-000971
公開番号（公開出願番号）：特開平7-049568
出願日： 1994年01月10日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：

【要約】【目的】微細加工に適するとともに、各種ドライエッチング工程で実用的に利用できる新規な感光性組成物を提供し、また、かかる感光性組成物を用いた有利なパターン形成方法を提供する。【構成】 ?@主鎖の少なくとも一部にポリビニルアルコール鎖の如きビニルアルコール系化合物を重合して得られる骨格を含み、該骨格の水酸基の少なくとも一部が酸脱離性保護基で保護され、好ましくは更にドライエッチング耐性を向上せせる基が導入されている物質と、光酸発生剤とを含有する感光性組成物。?A上記?@を用いて、極性の高い溶媒での現像、例えば水性現像を行う、又は水性現像でポジ・パターン、アルコール性現像でネガ・パターンを得る。

請求項（抜粋）：

主鎖の少なくとも一部にビニルアルコール系化合物を重合して得られる骨格を含み、該骨格の水酸基の少なくとも一部が酸脱離性保護基で保護されている物質と、光酸発生剤とを含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (8件)：

G03F 7/039 501 , C08F 8/12 MGG , C08L 29/04 LNG , G03F 7/021 511 , G03F 7/028 , G03F 7/038 505 , G03F 7/32 501 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 569 F

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-278265
特開平2-111945
特開昭62-096506

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