特許

J-GLOBAL ID：200903098624171310

光触媒改質装置

発明者： 林 和 夫 ,  野 田 悦 夫 ,  浅 山 雅 弘 ,  瀬 川 昇 ,  志 村 尚 彦 ,  今 村 武 ,  市 橋 利 夫
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 吉武 賢次 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-281997
公開番号（公開出願番号）：特開2003-088761
出願日： 2001年09月17日
公開日（公表日）： 2003年03月25日
要約：

【要約】【課題】 光触媒を可視光線に対して触媒作用が発現するよう、効率的に改質する光触媒改質装置を提供する。【解決手段】 光触媒改質装置13は、面積の互いに異なる一対の電極1、2と、小さい面積の電極2に接続され、プラズマ5を発生させる高周波電源4とを備えている。大きい面積の電極1はグランド14に接地されている。光触媒6は、いずれかの電極1、2上に設置されている。

請求項（抜粋）：

光触媒を可視光線に対して触媒作用が発現するよう改質する光触媒改質装置において、面積の互いに異なる一対の電極と、小さい面積の電極に接続され、一対の電極間にプラズマを発生させる高周波電源と、を備え、大きい面積の電極はグランドに接地され、光触媒は、いずれかの電極上に設置され、一対の電極間に生ずるプラズマによって光触媒を改質することを特徴とする光触媒改質装置。

IPC (3件)：

B01J 35/02 ,  B01J 37/34 ,  H05H 1/46

FI (3件)：

B01J 35/02 J ,  B01J 37/34 ,  H05H 1/46 M

Fターム (15件)：

4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069AA11 ,  4G069AA14 ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069CA10 ,  4G069CA13 ,  4G069CA17 ,  4G069DA06 ,  4G069EA02Y ,  4G069EA06 ,  4G069EA08 ,  4G069EA11 ,  4G069EA12

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 光触媒及びその利用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-141981   出願人：有限会社環境デバイス研究所
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-229402   出願人：株式会社日本セラテック, 高松利行
• プラズマCVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-136092   出願人：株式会社半導体エネルギー研究所