特許
J-GLOBAL ID：200903098630293591

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
水谷 一良

水谷 一良 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-286803
公開番号（公開出願番号）：特開2005-055697
出願日： 2003年08月05日
公開日（公表日）： 2005年03月03日
要約：
【課題】160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源使用時に十分な透過性を示し、表面ラフネス、現像欠陥、スカム、解像力が改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び(B)下記の一般式(X)で表される部分構造を側鎖に有する繰り返し単位及び特定構造の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び (B)下記一般式(X)で表される部分構造を側鎖に有する繰り返し単位及び下記一般式(Y)で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (2件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (16件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (2件)

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