特許
J-GLOBAL ID:200903098635551190
粒子線測定用モニタ装置、粒子線測定方法および粒子線測定システム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
波多野 久 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-203863
公開番号(公開出願番号):特開2001-033560
出願日: 1999年07月16日
公開日(公表日): 2001年02月09日
要約:
【要約】【課題】入射粒子線ビームが時間構造を持つ場合であっても、精度よく線量を測定できる粒子線測定用モニタ装置、粒子線測定方法および粒子線測定システムを提供する。また、粒子線ビーム強度が小さい場合であっても、オフセットノイズの影響を抑制できるようにすることおよび精度のよい位置モニタを行えるようにする。【解決手段】粒子線が入射される容器1と、この容器内に配置された一つ以上の高電圧電極2i,2ii,...および一つ以上の収集電極3i,3ii,...と、高電圧電極に高電圧を印加するための電源回路と、収集電極に接続され、監視すべき粒子線量を計測する計測回路4とを有する粒子線測定用モニタ装置において、外部信号により計測回路を測定または非測定の状態に制御するための制御機構を有する。
請求項(抜粋):
粒子線が入射される容器と、この容器内に配置された一つ以上の高電圧電極および一つ以上の収集電極と、前記高電圧電極に高電圧を印加するための電源回路と、前記収集電極に接続され、監視すべき粒子線量を計測する計測回路とを有する粒子線測定用モニタ装置において、外部信号により前記計測回路を測定または非測定の状態に制御するための制御機構を有することを特徴とする粒子線測定用モニタ装置。
IPC (2件):
FI (2件):
G01T 1/29 B
, G21K 5/04 C
Fターム (15件):
2G088EE01
, 2G088EE29
, 2G088EE30
, 2G088FF12
, 2G088FF13
, 2G088FF14
, 2G088GG03
, 2G088JJ09
, 2G088JJ32
, 2G088KK06
, 2G088KK11
, 2G088KK15
, 2G088KK27
, 2G088LL11
, 2G088LL17
引用特許:
審査官引用 (10件)
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放射線治療装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-321935
出願人:三菱電機株式会社
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特開平2-208593
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放射線撮像装置及び撮像方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-319866
出願人:キヤノン株式会社
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特開昭61-199842
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撮像装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-022797
出願人:東芝メディカルエンジニアリング株式会社, 株式会社東芝
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特開平2-208593
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特開昭61-199842
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放射線治療装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-002768
出願人:三菱電機株式会社
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X線検出装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-279161
出願人:株式会社島津製作所
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スペクトルデータ収集装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-255218
出願人:日本電子株式会社
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引用文献:
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