特許
J-GLOBAL ID:200903098720913050

面位置検出方法およびそれを用いた露光処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-064901
公開番号(公開出願番号):特開2003-264138
出願日: 2002年03月11日
公開日(公表日): 2003年09月19日
要約:
【要約】【課題】 計測点が1次元的に配置された露光装置においても、被処理体周縁部の露光領域に対して、被処理体内部の露光領域と同じ精度で面位置を検出することのできる優れた面位置検出方法を提供する。【解決手段】 面位置検出方法として、露光処理開始前に補正値計測工程を有し、被処理体周縁部の露光領域を露光する際には、露光領域中心の1測定点のみを用いて面位置の計測を行い、検出した面位置に前記補正値計測工程において記憶しておいた補正値を加算して補正するものである。
請求項(抜粋):
被処理体の露光領域における光学系の光軸方向の面位置を前記露光領域内に配置された複数の測定点において検出する方法であって、前記被処理体の露光処理を開始する前に、前記複数の測定点の全てが被処理体の内部に位置する被処理体内部の露光領域において面位置の計測を行い、前記複数の測定点の全点により算出された平均面位置と、前記測定点のうち露光領域中心の1測定点における面位置の差を補正値として記憶する補正値計測工程を有し、前記測定点の一部が前記被処理体の外部に位置する被処理体周縁部の露光領域を露光する際、前記1測定点のみを用いて検出した面位置に前記補正値を加算して面位置を補正することを特徴とする面位置検出方法。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/22
FI (4件):
G01B 11/00 B ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 526 B ,  H01L 21/30 516 A
Fターム (17件):
2F065AA06 ,  2F065AA20 ,  2F065AA31 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065DD10 ,  2F065FF10 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ42 ,  2F065TT08 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046EC03 ,  5F046FC04
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 面位置検出方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-230266   出願人:松下電子工業株式会社
  • 投影露光装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-191766   出願人:株式会社ニコン

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