特許
J-GLOBAL ID：200903098721341742
光源装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-073751
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271660
出願日： 1998年03月23日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：
【要約】【課題】この発明は、コストが高く装置が大型化し3つ以上の光ビームの副走査ピッチを変化させることができず温度変動の影響でLDからの光の走査位置が変動し画像品質が劣化するという課題を解決しようとするものである。【解決手段】 この発明は、ビーム合成手段に対して複数の発光部の光源の配置位置を変化させることができる光源装置において、前記複数の発光部の光源からの光の副走査位置を測定する測定手段56と、この測定手段56の測定結果に基づいて前記複数の発光部の光源の各々の配置位置を変化させる制御手段57とを備えたものである。
請求項（抜粋）：
光源、及び該光源からの光を平行光束にするコリメートレンズを一体に保持する複数の発光部と、この複数の発光部からの光を副走査方向に配列した状態から近接した状態にして出射するビーム合成手段とを有し、このビーム合成手段に対して前記複数の発光部の前記光源の配置位置を変化させることができる光源装置において、前記複数の発光部の前記光源からの光の副走査位置を測定する測定手段と、この測定手段の測定結果に基づいて前記複数の発光部の前記光源の各々の配置位置を変化させる制御手段とを備えたことを特徴とする光源装置。
引用特許：
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