ビーム光走査装置および画像形成装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-064724
公開番号（公開出願番号）：特開平9-258125
出願日： 1996年03月21日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：

【要約】【課題】環境変化や経時変化などによって光学系に変化が生じても、被走査面におけるビーム光の位置を常に所定の位置に制御でき、よって常に高画質を維持することができるビーム光走査装置を提供する。【解決手段】マルチビーム光学系を用いたデジタル複写機において、感光体ドラム15の表面と同等の位置に配設されたビーム光検知器38によって、ポリゴンミラー35で走査される各ビーム光の通過位置を検知し、この検知結果を基に、各ビーム光の感光体ドラム15の表面における相対位置が適性位置となるよう制御するための光路制御量を演算し、この演算した光路制御量に応じて各ビーム光の感光体ドラム15の表面における相対位置を変更するためのガルバノミラー33a〜33dをそれぞれ制御する。

請求項（抜粋）：

ビーム光を出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、少なくとも前記被走査面と同等の位置に配設され、前記走査手段により走査されるビーム光の通過位置を検知するビーム光通過位置検知手段と、このビーム光通過位置検知手段の検知結果を基に、前記走査手段により走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置が適性位置となるよう制御するための光路制御量を演算する演算手段と、この演算手段で求められた光路制御量に応じて前記走査手段により走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置を変更する光路変更手段と、を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。

IPC (3件)：

G02B 26/10 , B41J 2/44 , H04N 1/113

FI (3件)：

G02B 26/10 A , B41J 3/00 D , H04N 1/04 104 Z

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平2-160212
特開平2-160212
画像形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-250675 出願人：株式会社東芝, 東芝インテリジエントテクノロジ株式会社

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