特許
J-GLOBAL ID:200903098752046374
パターン検査装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
吉田 茂明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-205037
公開番号(公開出願番号):特開2002-022421
出願日: 2000年07月06日
公開日(公表日): 2002年01月23日
要約:
【要約】【課題】 ノイズ成分の影響を考慮した被検査画像における欠陥検出等を行うことが可能なパターン検査装置を提供する。【解決手段】 パターン検査装置1Aは、被検査画像Sと参照画像Rとの間の差分画像Uを生成し、当該差分画像Uの画素値に関する標準偏差σを用いて当該差分画像Uにおける各画素の画素値をエラー確率値Erに変換する。この変換は、差分画像Uに基づいて生成される絶対値画像Aを用いて行われる。得られたエラー確率値Erは、被検査画像Sの各画素に関する欠陥度合いを表しており、このエラー確率値Erと所定の閾値との大小関係に基づいて、被検査画像Sの各画素に対応する位置における被検査対象物の欠陥の有無を判定する。
請求項(抜粋):
被検査画像と参照画像とを比較することによりパターンの欠陥検査を行うパターン検査装置であって、被検査対象物に関する被検査画像を取得する被検査画像取得手段と、前記被検査画像の比較対象となる参照画像を取得する参照画像取得手段と、前記参照画像と前記被検査画像との間の差分画像を生成し、当該差分画像の画素値に関する標準偏差を用いて当該差分画像における各画素の画素値を、前記差分画像における画素値の分散状況に応じて各画素値を規格化したものとしてのエラー確率値に変換することにより、前記被検査画像の各画素に関する欠陥度合いを取得する欠陥度合い取得手段と、を備えることを特徴とするパターン検査装置。
IPC (5件):
G01B 11/24
, G01B 11/30
, G01N 21/956
, G06T 1/00 305
, G06T 7/00 300
FI (6件):
G01B 11/30 A
, G01N 21/956 A
, G01N 21/956 Z
, G06T 1/00 305 A
, G06T 7/00 300 E
, G01B 11/24 K
Fターム (52件):
2F065AA49
, 2F065AA51
, 2F065BB02
, 2F065BB03
, 2F065BB18
, 2F065CC01
, 2F065CC19
, 2F065CC21
, 2F065CC25
, 2F065DD04
, 2F065FF04
, 2F065FF42
, 2F065JJ02
, 2F065JJ26
, 2F065MM03
, 2F065PP12
, 2F065QQ00
, 2F065QQ03
, 2F065QQ04
, 2F065QQ17
, 2F065QQ24
, 2F065QQ25
, 2F065QQ27
, 2F065QQ41
, 2F065QQ42
, 2F065RR01
, 2F065RR06
, 2G051AA51
, 2G051AA65
, 2G051AB07
, 2G051DA07
, 2G051EA08
, 2G051EA12
, 2G051EA16
, 2G051EC02
, 2G051ED09
, 5B057AA03
, 5B057BA19
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CA18
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CB18
, 5B057DA03
, 5B057DA06
, 5B057DB02
, 5L096BA03
, 5L096FA14
, 5L096FA33
, 5L096FA34
, 5L096LA05
引用特許:
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