特許
J-GLOBAL ID：200903098764772712

光画像計測方法及びそれを用いた光干渉断層イメージング装置

発明者：
丹野 直弘

丹野 直弘 について


出願人/特許権者：
丹野 直弘

丹野 直弘 について


代理人 (1件)： 清水 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-172119
公開番号（公開出願番号）：特開2005-351727
出願日： 2004年06月10日
公開日（公表日）： 2005年12月22日
要約：
【課題】光路長を変化させる手段を必要とせず、さらに高額な液晶シャッターや複数台の2次元アレイセンサを必要とせずに、1台の2次元アレイセンサを具備するのみで、画素合わせの必要もない光干渉断層イメージング装置を提供する。【解決手段】 2光束1,2の空間干渉縞において空間干渉縞の空間周期λS の適宜な位相位置毎にアレイセンサ素子3を合せ配置し、各アレイセンサ素子3よりの各位相毎の信号を検出し、演算電子回路6〜10などを用いて相互の演算し、前記2光束1,2の干渉信号強度分布や位相差分布を描画して、光コヒーレンス断層画像化法と同様に被検査物体の表面乃至深層の断層画像をイメージングする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被検査物体に光ビームを照射し、その被検査物体から反射した光を利用して、その被検体の表面もしくは内部の形態情報を画像化する光画像計測方法において、物体光、参照光の2光束による空間干渉縞の空間周期の適宜な位相位置毎にアレイセンサ素子を合わせて配置し、前記各アレイセンサ素子からの各位相毎の信号を検出し相互に演算する空間周波数位相シフト方法により、前記2光束の干渉信号光強度分布や位相差分布を描画することを特徴とする光画像計測方法。
IPC (4件)：
G01N21/17 ,  A61B10/00 ,  G01B9/02 ,  G01N21/45
FI (4件)：
G01N21/17 620 ,  A61B10/00 E ,  G01B9/02 ,  G01N21/45 A
Fターム (31件)：
2F064AA09 ,  2F064CC10 ,  2F064EE01 ,  2F064EE04 ,  2F064FF03 ,  2F064FF07 ,  2F064GG12 ,  2F064GG22 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ01 ,  2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059BB14 ,  2G059CC16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059FF01 ,  2G059FF02 ,  2G059FF08 ,  2G059FF09 ,  2G059GG01 ,  2G059GG10 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10 ,  2G059PP04
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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