薄膜磁気ヘッドの製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：星宮勝美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-174457
公開番号（公開出願番号）：特開2002-367112
出願日： 2001年06月08日
公開日（公表日）： 2002年12月20日
要約：

【要約】【課題】 Coを含む磁性材料よりなり、上面が平坦化された高飽和磁束密度層を有する薄膜磁気ヘッドを製造する場合に、めっき法によって形成された高飽和磁束密度層の上面を平坦化する際における高飽和磁束密度層の腐食を防止する。【解決手段】薄膜磁気ヘッドの下部磁極層を形成する工程と上部磁極層を形成する工程の少なくとも一方は、下地膜51を形成する工程と、めっき法によって下地膜51の上に高飽和磁束密度層53を形成する工程と、イオンミリングによって下地膜51のうちの不要な部分を除去する工程と、高飽和磁束密度層53を覆う非磁性層を形成する工程と、化学機械研磨によって高飽和磁束密度層53および非磁性層の上面を平坦化する工程とを含む。イオンミリングでは、下地膜51の上面に対する法線とイオンの照射方向とのなす角度が45°以上となるように、下地膜51および高飽和磁束密度層53の側面にイオンを照射する。

請求項（抜粋）：

記録媒体に対向する媒体対向面と、互いに磁気的に連結され、前記媒体対向面側において互いに対向する磁極部分を含み、それぞれ少なくとも1つの層を含む第1および第2の磁性層と、前記第1の磁性層の磁極部分と前記第2の磁性層の磁極部分との間に設けられたギャップ層と、少なくとも一部が前記第1および第2の磁性層の間に、前記第1および第2の磁性層に対して絶縁された状態で設けられた薄膜コイルとを備え、前記第1の磁性層と前記第2の磁性層の少なくとも一方は、Coを含む磁性材料からなる高飽和磁束密度層を有する薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記第1の磁性層を形成する工程と、前記第1の磁性層の上に前記ギャップ層を形成する工程と、前記ギャップ層の上に前記第2の磁性層を形成する工程と、前記薄膜コイルを形成する工程とを備え、前記第1の磁性層を形成する工程と前記第2の磁性層を形成する工程の少なくとも一方は、導電性の下地膜を形成する工程と、めっき法によって前記下地膜の上に前記高飽和磁束密度層を形成する工程と、前記高飽和磁束密度層の形成後に、イオンミリングによって前記下地膜のうちの不要な部分を除去する工程と、前記高飽和磁束密度層を覆う非磁性層を形成する工程と、化学機械研磨によって、前記高飽和磁束密度層が露出するまで前記非磁性層を研磨して、前記高飽和磁束密度層および前記非磁性層の上面を平坦化する工程とを含み、前記下地膜のうちの不要な部分を除去する工程は、前記下地膜の上面に対する法線とイオンの照射方向とのなす角度が45°以上となるように、前記下地膜の上面および前記高飽和磁束密度層の側面に対してイオンを照射することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

FI (2件)：

G11B 5/31 C , G11B 5/31 A

Fターム (9件)：

5D033AA01 , 5D033BA03 , 5D033BA07 , 5D033BA12 , 5D033BA61 , 5D033DA03 , 5D033DA04 , 5D033DA08 , 5D033DA31

引用特許：

審査官引用 (4件)

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-192385 出願人：アルプス電気株式会社
積層磁極型薄膜磁気ヘッド
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-248562 出願人：住友金属工業株式会社
軟磁性膜及びその製造方法、ならびにこの軟磁性膜を用いた薄膜磁気ヘッド
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-364294 出願人：アルプス電気株式会社

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