新規スルホニウム塩

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-084424
公開番号（公開出願番号）：特開平8-245566
出願日： 1995年03月07日
公開日（公表日）： 1996年09月24日
要約：

【要約】【目的】微細加工技術に適した高解像性を有する化学増幅ポジ型レジスト材料の成分として好適な新規スルホニウム塩を提供する。【構成】下記一般式(1)で表される新規スルホニウム塩【化1】

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される新規スルホニウム塩【化1】

IPC (3件)：

C07C381/12 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501

FI (3件)：

C07C381/12 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501

引用特許：

審査官引用 (5件)

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