特許
J-GLOBAL ID：200903098794972015
微粒子構造体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
磯村 雅俊
, 渡邉 昌幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-276977
公開番号（公開出願番号）：特開2004-119428
出願日： 2002年09月24日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：
【課題】配向と面内方位が制御された微粒子構造体を薄膜状で安定して形成することが可能な微粒子構造体の製造方法を提供すること。【解決手段】基板に(111)結晶面顕在化処理を行い、基板上に(111)面により構成される凹形状を形成した(a)後、親水化処理工程を行い(b)、基板11を容器10に入った微粒子分散液12中に配置し、微粒子をこの凹形状にならわせて粒子を沈降・堆積(13)させる(c)。本例のように親水化処理をした場合は、分散媒が乾燥していき、微粒子分散液が少なくなってきても、微粒子分散液が基板の全面に広がっている状態を維持できるため、薄膜状の微粒子構造体を形成することができる(d)。親水化処理工程は、紫外線照射、プラズマ処理、オゾン処理、イオン照射処理、電子線照射処理、酸化性の薬液による薬品処理などである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
結晶性の基板に結晶学的(111)面を顕在化させる処理を施す工程と、基板表面に結晶学的(111)面が現れた基板に微粒子分散液を展開する工程と、微粒子を沈降堆積した後、溶媒を乾燥させることにより基板上にオパール結晶を形成する工程とを有する微粒子構造体を得る微粒子構造体の製造方法において、(111)面顕在化処理を施す工程の後、親水化処理工程を行うことを特徴とする微粒子構造体の製造方法。
IPC (6件)：
H01L29/06
, B01J19/08
, B01J19/12
, G02B1/02
, G02B6/12
, H01L21/02
H01L29/06 601N
, B01J19/08 E
, B01J19/12 C
, G02B1/02
, H01L21/02 B
, G02B6/12 Z
, G02B6/12 N
2H047QA01
, 4G075AA30
, 4G075AA62
, 4G075BA06
, 4G075BA08
, 4G075BD14
, 4G075CA33
, 4G075CA39
, 4G075CA47
, 4G075FB02
, 4G075FB04
, 4G075FC04
