特許

J-GLOBAL ID：200903098815542784

集束イオンビーム修正装置及び欠陥保証方法

発明者： 福島 祐一 ,  米倉 勲
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-155147
公開番号（公開出願番号）：特開2000-347384
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：

【要約】【課題】フォトマスクの欠損欠陥を集束イオンビーム照射によって修正を行う集束イオンビーム修正装置において、フォトマスク欠陥の修正部分の露光転写性を定量的に評価し、かつ良否判定を正確に行うことのできる集束イオンビーム修正装置および欠陥保証方法を提供する。【解決手段】欠陥修正部分を含むパターン領域の画像データから該マスクパターンをウェハー上に露光転写した際の光強度分布を求めるための光強度シミュレーション手段を設けたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

フォトマスクの欠損欠陥を集束イオンビーム照射によって修正を行う集束イオンビーム修正装置において、欠陥修正部分を含むパターン領域の画像データから該マスクパターンをウェハー上に露光転写した際の光強度分布を求めるための光強度シミュレーション手段を設けたことを特徴とする集束イオンビーム修正装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  H01J 37/30 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 T ,  H01J 37/30 Z ,  H01L 21/30 502 W

Fターム (8件)：

2H095BD04 ,  2H095BD25 ,  2H095BD26 ,  2H095BD27 ,  2H095BD35 ,  5C034AA02 ,  5C034AA03 ,  5C034AA09

引用特許：

審査官引用 (2件)

• レチクル外観検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-112702   出願人：日本電気株式会社
• フォトマスクに形成されたパターンの欠陥検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-160102   出願人：ソニー株式会社