特許
J-GLOBAL ID：200903011010767331
フォトマスクに形成されたパターンの欠陥検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 孝久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-160102
公開番号（公開出願番号）：特開平8-334889
出願日： 1995年06月02日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：
【要約】【目的】補正パターンや補助パターンの存在に影響されることがなく、あるいは、導波路効果に影響されることがなく、しかもフォトマスクの形式に拘わらず、常にフォトマスクに形成されたパターンの欠陥を確実に検出することができるパターンの欠陥検査方法を提供する。【構成】フォトマスクに形成されたパターンの欠陥検査方法であって、該フォトマスクを透過した光による光強度分布と、パターンデータに基づき計算された光強度分布とを比較することにより、フォトマスクに形成されたパターンの欠陥を検出する。
請求項（抜粋）：
フォトマスクに形成されたパターンの欠陥検査方法であって、該フォトマスクを透過した光による光強度分布と、パターンデータに基づき計算された光強度分布とを比較することにより、フォトマスクに形成されたパターンの欠陥を検出することを特徴とするパターン欠陥検査方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 S
, H01L 21/30 502 V
, H01L 21/30 502 W
