特許
J-GLOBAL ID:200903098818191281
エルビウム添加光学ガラス
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
恩田 博宣 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-536663
公開番号(公開出願番号):特表2002-506791
出願日: 1999年03月19日
公開日(公表日): 2002年03月05日
要約:
【要約】(a)ホストガラス、(b)有効量のエルビウム不純物、(c)濃度10〜40モル%のネットワーク改変性金属フッ化物、ならびに(d)さらなる別の成分、を含み、(a)、(b)、(c)および(d)の量は合計で100%であるエルビウム添加ガラス。
請求項(抜粋):
(a)SiO2 ホストガラス、 (b)有効量のエルビウム不純物、 (c)濃度10〜40モル%の網目改変性金属フッ化物、および (d)さらなる別の成分を含み、(a)、(b)、(c)および(d)の量が合計で100%であるエルビウム添加シリカガラス。
Fターム (155件):
4G062AA04
, 4G062BB01
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引用特許:
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