フォトマスク

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (12件)：前田弘 , 小山廣毅 , 竹内宏 , 嶋田高久 , 竹内祐二 , 今江克実 , 藤田篤史 , 二宮克也 , 原田智雄 , 井関勝守 , 関啓 , 杉浦靖也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-298321
公開番号（公開出願番号）：特開2007-108367
出願日： 2005年10月13日
公開日（公表日）： 2007年04月26日
要約：

【課題】ペリクルフレームの内壁に異物をトラップする粘着材層を設け且つ露光光による成長性異物の発生を抑えたフォトマスクを実現できるようにする。【解決手段】フォトマスクは、透明基板11と、透明基板11のマスクパターン形成面に形成され、周期的な格子状の部分を有するマスクパターン12と、マスクパターン形成面に接着され、マスクパターン12を囲む枠状のペリクルフレーム21と、ペリクルフレーム21のマスクパターン形成面と反対の側に接着され、ペリクルフレーム21に囲まれた空間を密閉するペリクル膜22とを備えている。ペリクルフレーム21は、内壁面に内壁粘着材33が設けられており且つ露光光50の、マスクパターン12の格子状の部分において回折された1次回折光51が、ペリクルフレーム21に直接照射されることがない位置に設けられている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

透明基板と、前記透明基板のマスクパターン形成面に形成されたマスクパターンと、前記マスクパターン形成面に接着され、前記マスクパターンを囲む枠状のペリクルフレームと、前記ペリクルフレームの前記マスクパターン形成面と反対側に接着され、前記ペリクルフレームに囲まれた空間を密閉するペリクル膜とを備え、前記ペリクルフレームは、内壁面に内壁粘着材が設けられており且つ前記透明基板の前記マスクパターン形成面と反対側の面から入射する露光光の、前記マスクパターンにより回折された1次回折光が、前記ペリクルフレームに直接に照射されることがない位置に設けられていることを特徴とするフォトマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/14 , G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F1/14 K , G03F1/08 D , H01L21/30 502P

Fターム (3件)：

2H095BB36 , 2H095BC09 , 2H095BC36

引用特許：

出願人引用 (1件)

ペリクル
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-379723 出願人：信越化学工業株式会社

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