特許

J-GLOBAL ID：200903098879577824

樹脂成形品の分子配向除去方法と装置

発明者： 黒崎 晏夫
出願人/特許権者： 黒崎 晏夫 ,  株式会社キャンパスクリエイト
代理人 (1件)： 菅原 一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-076181
公開番号（公開出願番号）：特開2002-273764
出願日： 2001年03月16日
公開日（公表日）： 2002年09月25日
要約：

【要約】【課題】樹脂成形品において加熱による残留分子配向の除去を短時間で行い、高い処理効率で製品の表面平坦度を向上させる。【解決手段】成形品金型1の一部に少なくとも1個の赤外線透過窓3を形成し、該透過窓3にその表面が対面するごとくに樹脂成形品Pを金型1内に挿入してその姿勢を固定し、該透過窓を指向するごとくに少なくとも1個の赤外線照射源を配置して、該照射源から透過窓を介して成形品の表面に赤外線を照射する。

請求項（抜粋）：

一部に少なくとも1個の赤外線透過窓を形成した成形品金型を用意し、該透過窓にその表面が対面するごとくに樹脂成形品を金型内に挿入してその姿勢を固定し、該透過窓を介して成形品の表面に赤外線を照射することを特徴とする樹脂成形品の分子配向除去方法。

IPC (2件)：

B29C 45/26 ,  B29C 71/00

FI (2件)：

B29C 45/26 ,  B29C 71/00

Fターム (18件)：

4F201AJ06 ,  4F201AK04 ,  4F201AM32 ,  4F201AP05 ,  4F201BA07 ,  4F201BC01 ,  4F201BC02 ,  4F201BC12 ,  4F201BC15 ,  4F201BR01 ,  4F201BR12 ,  4F201BR34 ,  4F202CA11 ,  4F202CB01 ,  4F202CK25 ,  4F202CL42 ,  4F202CN01 ,  4F202CN24

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 高分子射出成形装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-046200   出願人：黒崎晏夫
• 特開昭60-094335
  

審査官引用 (2件)

• 高分子射出成形装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-046200   出願人：黒崎晏夫
• 特開昭60-094335