高純度炭酸リチウムの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：赤塚賢次 , 福田保夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-368380
公開番号（公開出願番号）：特開2004-196607
出願日： 2002年12月19日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：

【課題】不純物含有量が多い水酸化リチウムを反応原料として用いても、Na、K、Ca、Al及びSiの各元素の含有量が1ppm以下である高純度炭酸リチウムが得られる製造方法を提供すること。【解決手段】粗製水酸化リチウムを含む水溶液を精密濾過した後、晶析を行って精製水酸化リチウムを得る第一工程、及び該精製水酸化リチウムと二酸化炭素とを水溶媒中で反応させて析出させた炭酸リチウム(a)を回収する第二工程、を含む高純度炭酸リチウムの製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

粗製水酸化リチウムを含む水溶液を精密濾過した後、晶析を行って精製水酸化リチウムを得る第一工程、及び該精製水酸化リチウムと二酸化炭素とを水溶媒中で反応させて析出させた炭酸リチウム(a)を回収する第二工程、を含むことを特徴とする高純度炭酸リチウムの製造方法。

IPC (1件)：

C01D15/08

FI (1件)：

C01D15/08

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭62-161973
特開昭64-027648
特開昭62-252315

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