特許
J-GLOBAL ID:200903098886266168

コンタクトセル、スルーホールセル、多層配線セルおよびアートワークデータの作成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 洋介 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-094397
公開番号(公開出願番号):特開平11-297831
出願日: 1998年04月07日
公開日(公表日): 1999年10月29日
要約:
【要約】【課題】 レイアウトの作成ならびにレイアウト検証を容易に行うこと。【解決手段】 コンタクトセル100は、下地層101と、配線102と、それをつなぐコンタクト103とから構成されている。配線102は、コンタクト102の左右方向(横方向)に対して上下方向(縦方向)に配線の後退分だけ長く伸ばされている。この配線102を延在させる方向は、上下方向(縦方向)ではなく左右方向(横方向)でも良い。
請求項(抜粋):
コンタクトと、該コンタクトを覆う配線とを有するコンタクトセルにおいて、配線端での前記配線の後退量をあらかじめ見越して、前記コンタクトセルを構成している前記配線を縦方向に伸ばしていることを特徴とするコンタクトセル。
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭60-208845
  • 半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-069691   出願人:セイコーエプソン株式会社

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