レーザダイオード装置、少なくとも1つのレーザダイオード装置を有するレーザシステムおよび光学式ポンピングレーザ

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , 杉本博司 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト , ラインハルト・アインゼル
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-265703
公開番号（公開出願番号）：特開2007-096326
出願日： 2006年09月28日
公開日（公表日）： 2007年04月12日
要約：

【課題】容易に種々のアクティブ領域の動作温度間の変動が少なく作動するレーザダイオード装置、レーザダイオード装置を有するレーザシステム、及び容易に効果的にポンピング可能な光学式ポンピングレーザを提供すること。【解決手段】アクティブ領域の横方向寸法がラテラル方向において変化する及び/又は隣接するアクティブ領域の間隔がラテラル方向で変化するレーザダイオード装置及び、支持体上に配置されているレーザダイオード装置を有しており、側面と支持体に接している縁部との間の間隔は側面の最も近傍に位置しているアクティブ領域と側面の間の間隔よりも小さい及び/又は前記側面と縁部の間の間隔はレーザダイオード装置の隣接する2つのアクティブ領域の間の間隔よりも小さいレーザシステム、及び上述のレーザダイオード装置又はレーザシステムによってポンピングされる光学式ポンピングレーザ。【選択図】図2A

請求項（抜粋）：

ラテラル方向に並列して配置されている、ビーム生成に適した複数のアクティブ領域(4a・・・4n)を有するレーザダイオード装置(2)であって、前記アクティブ領域の横方向寸法(ba・・・bn)はラテラル方向において変化する、および/または隣接するアクティブ領域の間隔(Da・・・Dl)はラテラル方向において変化する、ことを特徴とするレーザダイオード装置。

IPC (1件)：

H01S 5/22

FI (1件)：

H01S5/22 610

Fターム (7件)：

5F173AA26 , 5F173AB52 , 5F173AC52 , 5F173AD05 , 5F173AR13 , 5F173AR75 , 5F173AR99

引用特許：

審査官引用 (6件)

半導体レーザアレイ素子及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-282683 出願人：日本電信電話株式会社
半導体レーザ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-008334 出願人：ソニー株式会社
半導体レーザアレイ
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-140552 出願人：浜松ホトニクス株式会社

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