特許
J-GLOBAL ID：200903098893059321

薄膜形成装置

発明者：
藤井 良久

藤井 良久 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (3件)： 西教 圭一郎 ,  杉山 毅至 ,  廣瀬 峰太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-131757
公開番号（公開出願番号）：特開2004-335861
出願日： 2003年05月09日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：
【課題】薄膜をウエハ表面に均一に形成することが可能であり、ウエハがウエハホルダに安定して保持され取出しを容易に行うことができる。【解決手段】薄膜形成装置31において、ウエハホルダ32にはウエハ33が載置される凹部37が形成され、さらに凹部37の底面部38には貫通孔39が形成される。凹部37とウエハ33とによって形成される間隙Gは1mm未満であるので、雰囲気ガスの流れが乱れることなく薄膜をウエハ表面47に均一に形成することができる。また圧力調整手段49によって薄膜が形成される一方のウエハ表面47にかかる圧力に対して他方のウエハ表面48にかかる圧力が小さくなるように調整されて、ウエハ33がウエハホルダ32に安定して保持される。また貫通孔39に突上げ手段56を挿通させてウエハ33を突上げることによって凹部37からウエハ33を容易にかつ確実に取出すことが可能になる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
薄膜を構成する原子を含む揮発性化合物を気化させたガスとキャリアガスとの混合ガスである雰囲気ガスを加熱されたウエハ表面に供給し、雰囲気ガスとウエハとの化学反応によって前記原子を含む薄膜をウエハ表面に形成する薄膜形成装置において、 ウエハを内部空間に収納する容器と、 容器の内部空間に雰囲気ガスを供給するガス供給手段と、 容器の内部空間に存在するガスを排気するガス排出手段と、 ウエハが載置される凹部が形成され、さらに凹部の底面部には貫通孔が形成されるウエハホルダと、 ウエハホルダのウエハが載置される側と反対側の外周縁部に装着される保持体と、 貫通孔が形成され、前記保持体を介してウエハホルダが装着されるサセプタと、 中空空間が形成される円柱状の回転軸であって、中空空間がサセプタに形成される貫通孔に連通するようにサセプタに設けられる回転軸と、 前記回転軸の軸線まわりに、サセプタを回転させる回転駆動手段と、 前記回転軸に備わり、薄膜が形成される一方のウエハ表面にかかる圧力に対して他方のウエハ表面にかかる圧力が小さくなるように調整する圧力調整手段と、 前記サセプタを加熱する加熱手段とを備え、 前記ウエハホルダに形成される凹部と凹部に載置されたウエハとによって形成される間隙は1mm未満であることを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (3件)：
H01L21/205 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458
FI (3件)：
H01L21/205 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458
Fターム (19件)：
4K030BA35 ,  4K030EA06 ,  4K030EA08 ,  4K030EA11 ,  4K030GA02 ,  4K030GA05 ,  4K030GA06 ,  5F045AA04 ,  5F045AB17 ,  5F045AC07 ,  5F045AF04 ,  5F045BB02 ,  5F045DP11 ,  5F045EC01 ,  5F045EG01 ,  5F045EG05 ,  5F045EM02 ,  5F045EM04 ,  5F045EM10
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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