無酸素プラズマ処理における終了点の決定方法およびアッシング方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萼経夫 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-337593
公開番号（公開出願番号）：特開2001-189305
出願日： 2000年11月06日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：

【要約】【課題】無酸素プラズマ剥離処理用のアッシング終了点を正確に検出するための万全な方法を提供すること。【解決手段】半導体ウエハ加工で使用する無酸素プラズマ剥離処理の終了点を決める方法。この方法は、窒素ガスと反応性ガスを含むガス組成物を励起して無酸素プラズマを発生し、このプラズマがフォトレジスト/残留物を有する基板88と反応する。終了点は、約387nmの波長で無酸素反応生成物の第1光放出信号を光学的に測定して決定する。プラズマがフォトレジスト/残留物と最早反応しなくなり約387nmで光放出信号を生じる時を終了点と決めて、ウエハからフォトレジスト/残留物が取り除かれたことを表示する。約358nmと約431nmで無酸素反応生成物の第2光放出信号をモニターして終了点を決めることもできる。

請求項（抜粋）：

無酸素プラズマ・ストリッピング処理における終了点を決定するための方法であって、窒素ガスと、この他に水素含有ガス、フッ素含有ガス、およびフッ素-水素含有ガス混合物から選択された1つのガスを含むガス組成物を励起して、無酸素プラズマを形成し、フォトレジストおよび/または残留物を表面上に有する基板(88)に対して前記無酸素プラズマを反応させて、無酸素反応生成物に対応する光放出信号を発生し、前記反応生成物から生じる光放出信号強度を一定の時間にわたって順次記録し、前記反応生成物の光放出信号強度がもはや検出されなくなったときの時間において前記終了点を決定する、各工程を含むことを特徴とする方法。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/302 H , H01L 21/30 572 A

引用特許：

審査官引用 (8件)

半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-316931 出願人：日本電気株式会社
特開平2-280326
特開平2-280326

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