特許
J-GLOBAL ID:200903098910093261
排ガス浄化用酸化触媒装置の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
佐藤 辰彦
, 堀 進
, 鷺 健志
, 本間 賢一
, 加賀谷 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-021717
公開番号(公開出願番号):特開2009-178686
出願日: 2008年01月31日
公開日(公表日): 2009年08月13日
要約:
【課題】内燃機関の排ガス中のパティキュレートをより低温で酸化し浄化することができる排ガス浄化用酸化触媒装置の製造方法を提供する。【解決手段】排ガス浄化用酸化触媒装置1の製造方法は、複合金属酸化物を構成する複数の金属の化合物とクエン酸と水とを焼成して焼成物を得る工程と、該焼成物と水とジルコニアからなるゾルであるバインダーとを混合し粉砕してスラリーを作製する工程と、該スラリーを多孔質フィルタ基材2に塗布する工程と、該多孔質フィルタ基材2を焼成して多孔質フィルタ基材2に担持された多孔質触媒層3を形成する工程とを備える。多孔質触媒層3は直径が0.02〜5μmの範囲である細孔を備え、多孔質フィルタ基材2及び多孔質触媒層3全体の気孔率が50〜60体積%の範囲である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
内燃機関の排ガス中のパティキュレートを、複合金属酸化物からなる触媒を用いて酸化し浄化する排ガス浄化用酸化触媒装置の製造方法であって、
該複合金属酸化物を構成する複数の金属の化合物とクエン酸と水とを焼成して焼成物を得る工程と、
得られた該焼成物と水とバインダーとを混合し粉砕してスラリーを調製する工程と、
該スラリーを多孔質フィルタ基材に塗布する工程と、
該スラリーが塗布された該多孔質フィルタ基材を焼成して、該多孔質フィルタ基材に担持された該複合金属酸化物からなる多孔質触媒層を形成する工程とを備えることを特徴とする排ガス浄化用酸化触媒装置の製造方法。
IPC (7件):
B01J 37/02
, B01J 37/08
, B01J 37/04
, B01J 35/10
, B01D 53/94
, B01J 27/224
, F01N 3/02
FI (7件):
B01J37/02 301D
, B01J37/08
, B01J37/04 101
, B01J35/10 301F
, B01D53/36 104Z
, B01J27/224 A
, F01N3/02 321A
Fターム (61件):
3G090AA03
, 3G090BA01
, 4D048AA14
, 4D048AB01
, 4D048BA06X
, 4D048BA08X
, 4D048BA18X
, 4D048BA28X
, 4D048BA32X
, 4D048BA34X
, 4D048BA41X
, 4D048BA42X
, 4D048BA45X
, 4D048BB17
, 4D048CC38
, 4D048CD05
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169AA09
, 4G169BA05A
, 4G169BA05B
, 4G169BA21C
, 4G169BA37
, 4G169BB06A
, 4G169BB06B
, 4G169BB15B
, 4G169BC32A
, 4G169BC32B
, 4G169BC32C
, 4G169BC40A
, 4G169BC40B
, 4G169BC40C
, 4G169BC62A
, 4G169BC62B
, 4G169BC62C
, 4G169BC70A
, 4G169BC70B
, 4G169BC70C
, 4G169BD05B
, 4G169BE08C
, 4G169CA02
, 4G169CA03
, 4G169CA07
, 4G169CA18
, 4G169DA06
, 4G169EA08
, 4G169EA18
, 4G169EB12X
, 4G169EB15X
, 4G169EC15X
, 4G169EC16X
, 4G169EC17X
, 4G169FA01
, 4G169FB06
, 4G169FB15
, 4G169FB23
, 4G169FB30
, 4G169FC02
, 4G169FC05
, 4G169FC08
, 4G169FC10
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
DPFおよびその製造法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-059226
出願人:DOWAホールディングス株式会社
審査官引用 (5件)
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