特許
J-GLOBAL ID：200903098980784415

セラミックス、セラミックス粉末の製造方法及びセラミックスの製造方法。

発明者：
中村 良平

中村 良平 について


出願人/特許権者：
日立金属株式会社

日立金属株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-350213
公開番号（公開出願番号）：特開2001-348273
出願日： 2000年11月16日
公開日（公表日）： 2001年12月18日
要約：
【要約】【課題】 発光強度が大きく、減衰時定数及び残光が小さく、また、コストが比較的安価な透明セラミックシンチレータを提供すること。【解決手段】 一般式Gd3-xCexAlySizGa5-y-zO12[ただし、0.001≦x≦0.05、1≦y≦4、0.0015≦z≦0.03]で表されることを特徴とするセラミックスであり、混合後、1400〜1600°Cで仮焼してガーネット粉末を作成し、さらに、プレス成形後、5×104Pa以上の非還元性雰囲気において1600〜1700°Cの温度範囲で焼結し、また、アルゴン雰囲気1400〜1600°Cの温度で熱間静水圧プレス焼結を行い透明セラミックシンチレータとする製造方法。
請求項（抜粋）：
一般式Gd3-xCexAlySizGa5-y-zO12で表されることを特徴とするセラミックス。(ただし、0.001≦x≦0.05、1≦y≦4、0.0015≦z≦0.03)
IPC (6件)：
C04B 35/50 ,  C09K 11/00 ,  C09K 11/08 ,  C09K 11/80 CPP ,  G01T 1/20 ,  G01T 1/202
FI (7件)：
C04B 35/50 ,  C09K 11/00 E ,  C09K 11/08 B ,  C09K 11/08 E ,  C09K 11/80 CPP ,  G01T 1/20 B ,  G01T 1/202
Fターム (13件)：
2G088EE01 ,  2G088EE29 ,  2G088FF02 ,  2G088GG10 ,  2G088JJ37 ,  4H001CA08 ,  4H001CF01 ,  4H001CF02 ,  4H001XA08 ,  4H001XA13 ,  4H001XA31 ,  4H001XA64 ,  4H001YA58
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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