セラミックス、セラミックス粉末の製造方法及びセラミックスの製造方法。

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-350213
公開番号（公開出願番号）：特開2001-348273
出願日： 2000年11月16日
公開日（公表日）： 2001年12月18日
要約：

【要約】【課題】発光強度が大きく、減衰時定数及び残光が小さく、また、コストが比較的安価な透明セラミックシンチレータを提供すること。【解決手段】一般式Gd3-xCexAlySizGa5-y-zO12[ただし、0.001≦x≦0.05、1≦y≦4、0.0015≦z≦0.03]で表されることを特徴とするセラミックスであり、混合後、1400〜1600°Cで仮焼してガーネット粉末を作成し、さらに、プレス成形後、5×104Pa以上の非還元性雰囲気において1600〜1700°Cの温度範囲で焼結し、また、アルゴン雰囲気1400〜1600°Cの温度で熱間静水圧プレス焼結を行い透明セラミックシンチレータとする製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式Gd3-xCexAlySizGa5-y-zO12で表されることを特徴とするセラミックス。(ただし、0.001≦x≦0.05、1≦y≦4、0.0015≦z≦0.03)

IPC (6件)：

C04B 35/50 , C09K 11/00 , C09K 11/08 , C09K 11/80 CPP , G01T 1/20 , G01T 1/202

FI (7件)：

C04B 35/50 , C09K 11/00 E , C09K 11/08 B , C09K 11/08 E , C09K 11/80 CPP , G01T 1/20 B , G01T 1/202

Fターム (13件)：

2G088EE01 , 2G088EE29 , 2G088FF02 , 2G088GG10 , 2G088JJ37 , 4H001CA08 , 4H001CF01 , 4H001CF02 , 4H001XA08 , 4H001XA13 , 4H001XA31 , 4H001XA64 , 4H001YA58

引用特許：

審査官引用 (8件)

シンチレータ、それを用いた放射線検出器及びX線CT装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-367295 出願人：株式会社日立メディコ
特開昭49-101284
特開昭52-138487

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