特許

J-GLOBAL ID：200903099076612473

マイクロカプセルの製造方法およびその装置

発明者： 樋口 俊郎 ,  鳥居 徹 ,  西迫 貴志 ,  谷口 友宏
出願人/特許権者： 独立行政法人 科学技術振興機構
代理人 (1件)： 清水 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-209330
公開番号（公開出願番号）：特開2004-290977
出願日： 2004年07月16日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：

【課題】 2段階に作用させた分散相にさらに連続相を作用させて、簡便に、しかも迅速にマイクロカプセルを生成させることができるマイクロカプセルの製造方法およびその装置を提供する。 【解決手段】 マイクロカプセルの製造方法において、マイクロチャンネル12中を流れる連続相17に対し、殻となる相18および内部に内包される相19を、前記連続相17の流れに交差する向きで供給し、前記殻となる相18は前記内部に内包される相19に対して上流側から薄い層をなすように供給し、マイクロカプセル20を得る。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

マイクロチャンネル中を流れる連続相に対し、殻となる相および内部に内包される相を、前記連続相の流れに交差する向きで供給し、前記殻となる相は前記内部に内包される相に対して上流側から薄い層をなすように供給し、マイクロカプセルを得ることを特徴とするマイクロカプセルの製造方法。

IPC (1件)：

B01J13/04

FI (1件)：

B01J13/02 A

Fターム (5件)：

4G005AA01 ,  4G005AB14 ,  4G005BA20 ,  4G005CA01 ,  4G005EA03

引用特許：

出願人引用 (1件)

• なし