特許
J-GLOBAL ID：200903099077750187

電子材料の洗浄方法

発明者：
井田 純一

井田 純一 について

, 
森田 博志

森田 博志 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-023515
公開番号（公開出願番号）：特開2002-231677
出願日： 2001年01月31日
公開日（公表日）： 2002年08月16日
要約：
【要約】【課題】低濃度のオゾン含有水を用いて高い洗浄効果を得ることができる電子材料の洗浄方法を提供する。【解決手段】オゾン濃度5〜50mg/Lのオゾン含有水を用いて電子材料を洗浄する方法であって、オゾン含有水のオゾン濃度cmg/L、温度t°Cとしたとき、c+t≧45を満たす条件で洗浄することを特徴とする電子材料の洗浄方法。
請求項（抜粋）：
オゾン濃度5〜50mg/Lのオゾン含有水を用いて電子材料を洗浄する方法であって、オゾン含有水のオゾン濃度cmg/L、温度t°Cとしたとき、c+t≧45を満たす条件で洗浄することを特徴とする電子材料の洗浄方法。
IPC (4件)：
H01L 21/304 647 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/10 ,  C11D 7/02
FI (4件)：
H01L 21/304 647 Z ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 3/10 Z ,  C11D 7/02
Fターム (18件)：
3B201AA03 ,  3B201AA46 ,  3B201AB33 ,  3B201AB53 ,  3B201BB21 ,  3B201BB44 ,  3B201BB82 ,  3B201BB83 ,  3B201BB95 ,  3B201BB96 ,  3B201CB01 ,  3B201CD01 ,  4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003EA31 ,  4H003ED02 ,  4H003EE03 ,  4H003FA04
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM