ストレス軽減剤及びそれを含有してなる皮膚外用剤

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： , ,
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-025793
公開番号（公開出願番号）：特開2001-213775
出願日： 2000年02月03日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：

【要約】【課題】本発明は、負荷ストレスの生体への悪影響を予防する手段を提供することを課題とする。【解決手段】下記式1に表される化合物又は生理的に許容されるその塩からなる、負荷ストレス軽減剤を化粧料などの皮膚外用剤に含有させる。【化1】式1(但し、式中R1、R2はそれぞれ独立に水素原子又は式2に表される置換基から選ばれる1種乃至は2種以上を有していても良い芳香族基を表し、且つ、R1、R2の少なくとも1方は該置換基を有していても良い芳香族基であり、R3、R4はそれぞれ独立に水素原子又は式2に表される置換基を表し、R5は水素原子、糖残基、アルキル基又はアシル基を表し、且つ、R5はR4の基と結合し環を形成していても良い。)【化2】式2(但し、式中R5は式1中のR5と同じ意味を表す。)

請求項（抜粋）：

下記式1に表される化合物又は生理的に許容されるその塩からなる、負荷ストレス軽減剤。【化1】式1(但し、式中R1、R2はそれぞれ独立に水素原子又は式2に表される置換基から選ばれる1種乃至は2種以上を有していても良い芳香族基を表し、且つ、R1、R2の少なくとも1方は該置換基を有していても良い芳香族基であり、R3、R4はそれぞれ独立に水素原子又は式2に表される置換基を表し、R5は水素原子、糖残基、アルキル基又はアシル基を表し、且つ、R5はR4の基と結合し環を形成していても良い。)【化2】式2(但し、式中R5は式1中のR5と同じ意味を表す。)

IPC (12件)：

A61K 31/352 , A61K 7/00 , A61K 31/357 , A61K 31/36 , A61K 31/7048 , A61P 25/18 , C07D311/30 , C07D311/32 , C07D311/36 , C07D493/04 106 , C07H 15/26 , C07H 17/07

FI (12件)：

A61K 31/352 , A61K 7/00 M , A61K 31/357 , A61K 31/36 , A61K 31/7048 , A61P 25/18 , C07D311/30 , C07D311/32 , C07D311/36 , C07D493/04 106 C , C07H 15/26 , C07H 17/07

Fターム (35件)：

4C057BB02 , 4C057DD01 , 4C057KK08 , 4C057KK09 , 4C062EE44 , 4C062EE53 , 4C071AA01 , 4C071AA08 , 4C071BB01 , 4C071CC13 , 4C071EE04 , 4C071EE10 , 4C071FF17 , 4C071HH05 , 4C071JJ01 , 4C083AC102 , 4C083AC112 , 4C083AC122 , 4C083AC432 , 4C083AC841 , 4C083AC842 , 4C083AD212 , 4C083AD391 , 4C083AD392 , 4C083CC04 , 4C083DD23 , 4C083EE50 , 4C086AA01 , 4C086AA02 , 4C086BA08 , 4C086CA01 , 4C086MA01 , 4C086MA63 , 4C086NA14 , 4C086ZA89

引用特許：

審査官引用 (8件)

津液改善用皮膚外用剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-260526 出願人：有限会社ドクターズ・コスメテイクス, ポーラ化成工業株式会社
アトピー性皮膚炎治療剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-285496 出願人：呉羽化学工業株式会社
特開平3-005423

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