特許
J-GLOBAL ID:200903099143265511
ハイドロキシアパタイト膜コーティング材とその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
宇佐見 忠男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-056267
公開番号(公開出願番号):特開2003-253424
出願日: 2002年03月01日
公開日(公表日): 2003年09月10日
要約:
【要約】【課題】ハイドロキシアパタイトを基体金属表面にコーティングして、該ハイドロキシアパタイトの生体適合性、特定物質の吸着あるいは特定イオンの交換等の特性を利用した医療機器、フィルター、センサー等の応用が広まっている。この場合ハイドロキシアパタイト膜がその機能を安定、確実に発揮するためにはハイドロキシアパタイト膜が基体金属表面に強固に固着されることが必要である。【解決手段】ハイドロキシアパタイトを基体金属表面に必要とされる最低限の薄膜にコーティングするため、レーザーアブレーション法にてコーティングを行なうこととし、コーティングの初期において高真空中でハイドロキシアパタイトの分解生成物を短時間、極く薄く前処理コーティングして該基体金属表面の酸化を防止し、その後水蒸気または水蒸気混合ガスを流入し、この雰囲気中でハイドロキシアパタイトのコーティングを行なうことにより、ハイドロキシアパタイト膜を強固に固着させることが出来る。
請求項(抜粋):
基体金属表面にハイドロキシアパタイト分解生成物薄膜を介してハイドロキシアパタイト膜がコーティングされていることを特徴とするハイドロキシアパタイト膜コーティング材
IPC (3件):
C23C 14/06
, C23C 14/28
, A61L 27/00
FI (5件):
C23C 14/06 K
, C23C 14/28
, A61L 27/00 J
, A61L 27/00 L
, A61L 27/00 M
Fターム (16件):
4C081AB03
, 4C081AB05
, 4C081AB06
, 4C081CF032
, 4C081CG03
, 4C081EA06
, 4C081EA14
, 4K029AA02
, 4K029BA41
, 4K029CA02
, 4K029DB20
, 4K029EA03
, 4K029EA05
, 4K029FA04
, 4K029GA01
, 4K029GA03
引用特許:
引用文献:
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