パターン測定方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-269919
公開番号（公開出願番号）：特開2001-091214
出願日： 1999年09月24日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
要約：

【要約】【課題】 1度の露光で被測定用パターンを形成し、且つ測定用パターンの占有面積を小さくしても精度良い測定を行い得る。【解決手段】露光装置における光学系の収差関数の測定のために、基準パターンと被測定用パターンとの相対位置を測定するパターン測定方法であって、微細ピッチの繰り返しパターンからなる被測定用パターンと、この被測定用パターンの両側に線対称に配置された該パターンよりも線幅の大きい基準パターンとを有する検査用マスクを用い、投影露光装置を使用して各パターンをウェハ上に露光した後、ウェハ上に形成された各々のパターンに対し、露光波長よりも短い波長の測定光源を有する測定機器を用い、ウェハ上の基準パターンA1,A2の中心位置Acと被測定用パターンの両端を除く該パターンの中心位置を測定し、次いで各々の中心位置の差を求める。

請求項（抜粋）：

基準パターンと被測定用パターンとの相対位置を測定するパターン測定方法であって、所定周期の繰り返しパターンからなる被測定用パターンと、この被測定用パターンよりも線幅の大きい基準パターンとを有するマスクを用い、投影露光装置を使用して上記各パターンを試料上に転写する工程と、前記転写により前記試料上に形成された各々のパターンに対し、該パターンを転写する際の露光波長よりも短い波長の測定光源又は荷電ビーム源を有する測定機器を用い、前記試料上の基準パターンの中心位置と被測定用パターンの中心位置を測定し、且つ被測定用パターンに対しては繰り返しの最初と最後の部分を除くパターンの中心位置を測定する工程と、前記測定された各中心位置の差を求める工程と、を含むことを特徴とするパターン測定方法。

IPC (5件)：

G01B 11/00 , G01B 15/00 , G01B 15/04 , G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (6件)：

G01B 11/00 C , G01B 15/00 B , G01B 15/04 , G03F 1/08 M , H01L 21/30 515 F , H01L 21/30 516 A

Fターム (34件)：

2F065AA03 , 2F065AA17 , 2F065AA56 , 2F065BB02 , 2F065BB22 , 2F065CC19 , 2F065DD03 , 2F065FF61 , 2F065GG22 , 2F065PP24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ31 , 2F067AA13 , 2F067AA15 , 2F067AA54 , 2F067BB04 , 2F067CC17 , 2F067EE04 , 2F067GG01 , 2F067HH06 , 2F067KK06 , 2F067LL00 , 2F067LL18 , 2F067RR35 , 2H095BD09 , 2H095BD14 , 2H095BD23 , 2H095BE06 , 2H095BE09 , 5F046BA04 , 5F046CB17 , 5F046DA13 , 5F046DA30 , 5F046DB05

引用特許：

審査官引用 (4件)

レンズの収差測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-037473 出願人：株式会社東芝
投影光学系の収差測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-339703 出願人：株式会社ニコン
投影光学装置、収差測定方法、及び投影方法、並びにデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-042836 出願人：株式会社ニコン

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