特許
J-GLOBAL ID：200903099170764767
ポジ画像形成組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-160276
公開番号（公開出願番号）：特開平10-010735
出願日： 1996年06月20日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：
【要約】【課題】 ポジ画像形成組成物において高感度で露光後のベークによる膜収縮が少なく、良好なプロファイルと高解像力を有し、更に露光後、熱処理までの放置時間による解像力の劣化がほとんど起こらず、優れた安定性を有するレジスト組成物が得られる。また、UV域から赤外域の光線に対して高い感度を有し、非画像部の汚れのないオフセット印刷版が得られる。【解決手段】 光もしくは熱の作用により酸を発生する化合物及び特定のN-スルホニルアミド化合物を含有するポジ型感光性組成物。
請求項（抜粋）：
(a)光もしくは熱の作用により酸を発生する化合物、及び(b)下記一般式(1)及び(2)で示されるN-スルホニルアミド化合物から選択される少なくとも一種を含むことを特徴とするポジ画像形成組成物。 L1-(SO2-NR2-CO-R1)n (1) L1-(CO-NR2-SO2-R1)n (2)(式中、nは1〜6の整数であり、R1 は、芳香族基又はアルキル基を表わす。n=1のとき、L1 は芳香族基又はアルキル基を表わし、n=2〜6のとき、L1 は非金属原子からなる多価の連結基を表わす。R2 は三級アルキル基、アルコキシメチル基、アリールメチル基又は脂環式アルキル基を表わす。)
IPC (5件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/00 503
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
G03F 7/039 501
, G03F 7/00 503
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/30 502 R
