特許

J-GLOBAL ID：200903099193927590

リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法並びに測定装置

発明者： マルセル ヘンドリクス マリア ビームス ,  エンゲルベルテュス アントニウス フランシスクス ファン デル パシュ
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  白江 克則 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-306279
公開番号（公開出願番号）：特開2005-229091
出願日： 2004年10月21日
公開日（公表日）： 2005年08月25日
要約：

【課題】走査型露光装置のマスクステージ、あるいはウエハステージにおいて、走査方向と直交する方向の変位を測定する測定手段を含むリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】フレーム15に固定されたビーム源17から発せられたビームはステージに固定された反射型の格子26により2つのビームに分割される。さらに、それぞれのビームは透過型の第2の格子18,19、第3の格子24,25、1/4波長板22,23を透過後、反射型の格子26でビームを1本にし、、センサに入射させる。センサはビームの干渉の強度変動を感知し、ステージの変動量を測定する。【選択図】図2A

請求項（抜粋）：

放射投影ビームを提供する放射装置と、 基板の目標部分に前記投影ビームを投影する投影装置と、 移動可能な物体と、 実質的に第1方向及び該第1方向とは異なる第2方向に、前記投影装置に対して相対的に前記移動可能な物体を移動させる変位手段と、 前記第1方向及び前記第2方向に実質的に直交する第3方向の、前記移動可能な物体の変位を測定する測定手段とを含むリソグラフィ装置において、 前記測定手段がエンコーダ装置を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。

IPC (3件)：

H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G03F7/20

FI (5件)：

H01L21/30 516B ,  G01B11/00 G ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515F ,  H01L21/30 515G

Fターム (19件)：

2F065AA04 ,  2F065FF16 ,  2F065FF18 ,  2F065FF51 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065HH08 ,  2F065LL36 ,  2F065LL42 ,  2F065LL46 ,  2F065QQ00 ,  5F046BA03 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC20 ,  5F046DB05 ,  5F046DC05 ,  5F046DC12

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ステージ装置およびこれを用いた露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-038029   出願人：キヤノン株式会社