特許

J-GLOBAL ID：200903099225031772

レーザによってガラスにマーキングする方法及び装置

発明者： ウラ・トリンクス ,  アンドレ・ヴイツツマン
出願人/特許権者： カール-ツァイス-シュティフトゥング
代理人 (1件)： 中平 治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-123200
公開番号（公開出願番号）：特開2003-019578
出願日： 2002年03月22日
公開日（公表日）： 2003年01月21日
要約：

【要約】【課題】 レーザによってガラスにマーキングするための改善された方法及び改善された装置を提供する。【解決手段】 レーザによってガラスにマーキングする方法及び装置において、ガラスは、まずガラスの転移温度より上の温度にされる。ガラスは、それからレーザパルスによって作用を受け、このレーザパルスは、ガラスの表面にマーキングを取付ける。なるべくレーザパルスのピーク出力は、ガラス表面と熱的な相互作用に通じるだけのように選択される。このことは、マーキングされたガラスの材料特性をマーキングされない製品と比較して不変のままにするという利点を有する。

請求項（抜粋）：

a)引抜きプロセスに沿ってマーキング位置を選択し、このマーキング位置が、転移温度より上のガラス温度を有し、b)ガラスの表面にマーキングを取付けるためにガラスにレーザパルスを作用させる:ステップを含むことを特徴とする、ガラスにマーキングする方法。

IPC (4件)：

B23K 26/00 ,  C03B 17/04 ,  C03B 33/09 ,  C03C 23/00

FI (5件)：

B23K 26/00 B ,  B23K 26/00 G ,  C03B 17/04 A ,  C03B 33/09 ,  C03C 23/00 D

Fターム (14件)：

4E068AA02 ,  4E068AB01 ,  4E068CA03 ,  4E068DA15 ,  4E068DB13 ,  4G015FA06 ,  4G015FB01 ,  4G015FC02 ,  4G015FC14 ,  4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AB09 ,  4G059AC08 ,  4G059AC30

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭55-109237
  
• 半導体チップおよびそれを用いた半導体装置の製造システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-036370   出願人：株式会社東芝