特許

J-GLOBAL ID：200903099226953649

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 神田 博美 ,  漢那 慎一 ,  稲部 陽樹
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-352658
公開番号（公開出願番号）：特開2005-266767
出願日： 2004年12月06日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：

【課題】 液浸露光によるパターン形成においても、スカムの発生が抑制され、PEB温度依存性が小さい、良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)溶解度パラメーター(SP値)が20.0以上の繰り返し単位を有し、単環又は多環の脂環炭化水素構造を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)溶解度パラメーター(SP値)が20.0以上の繰り返し単位を有し、単環又は多環の脂環炭化水素構造を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 504 ,  H01L21/30 502R

Fターム (16件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025CB51 ,  2H025CC04 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特公昭57-153433号公報
  
• パターン形成方法及びその露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-008136   出願人：株式会社日立製作所
• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン