特許
J-GLOBAL ID：200903099254182070
RI化合物合成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (3件)：
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 黒木 義樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-171471
公開番号（公開出願番号）：特開2006-342139
出願日： 2005年06月10日
公開日（公表日）： 2006年12月21日
要約：
【課題】 低コスト化及び信頼性の向上が図られると共に、反応の安定化及びRI化合物の高純度化が図られるRI化合物合成装置を提供する。【解決手段】 反応器16に導入するための複数の試薬を各々供給する各経路L6〜L10と、これらの経路L6〜L10を集合し選択的に切り換える切換弁V4,V5と、この切換弁V4,V5で切り換えられた経路L6〜L10の試薬を反応器16に導く共通経路L4,L5と、を備える組を、複数の試薬を無機物とする組3と有機物とする組4とに分けることで、経路、弁の個数を低減しつつ、切換弁V4,V5及び共通経路L4,L5での無機物と有機物との混合を無くし反応の阻害や不純物の発生を防止する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
放射性同位元素、複数の試薬を反応器に導入し放射性同位元素標識化合物を得るRI化合物合成装置であって、
前記複数の試薬を各々供給する各経路と、
これらの経路を集合し選択的に切り換える切換弁と、
この切換弁と前記反応器とを接続し前記切換弁で切り換えられた経路の試薬を前記反応器に導く共通経路と、を備え、
前記複数の経路、前記切換弁及び前記共通経路を備える組が、前記複数の試薬を無機物とする組と有機物とする組とに分けられていることを特徴とするRI化合物合成装置。
IPC (3件)：
A61K 51/00
, G01T 1/161
, G01T 7/00
A61K49/02 C
, G01T1/161 A
, G01T7/00 A
2G088EE02
, 2G088FF07
, 2G088HH06
, 2G088HH07
, 2G088HH09
, 2G088JJ37
, 4C085HH03
, 4C085JJ02
, 4C085KA29
, 4C085KB38
, 4C085KB39
, 4C085KB78
, 4C085LL01
, 4C085LL03
, 4H006AA04
, 4H006AC00
