特許

J-GLOBAL ID：200903099279603500

ビス(ヒドロキシベンジル)ベンゼン類、そのエポキシ樹脂、およびそれらの製造方法

発明者： 山口 桂三郎 ,  浦上 達宣 ,  石原 裕子 ,  山口 彰宏
出願人/特許権者： 三井東圧化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-000325
公開番号（公開出願番号）：特開平7-196568
出願日： 1994年01月06日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：

【要約】【構成】 フェノールまたはクレゾール類と、アラルキル化合物を、反応して得られるフェノールアラルキル樹脂組成物から、真空蒸留する一般式(III)で表されるビス(ヒドロキシベンジル)ベンゼン類の製造法、および、これから得られるエポキシ樹脂。【効果】 蒸留時の分解を抑え、高純度、高収率で、有用なビスフェノール化合物を得る方法、及び、作業性、機械的物性に優れたエポキシ樹脂を提供する。

請求項（抜粋）：

フェノールまたはクレゾール類と一般式(I)(化1)で表されるアラルキル化合物を、酸触媒の存在下で反応させて得られる一般式(II)(化3)で表されるフェノールアラルキル樹脂組成物から、酸触媒成分を除去または失活させた後、真空蒸留することを特徴とする一般式(III)(化2)で表されるビス(ヒドロキシベンジル)ベンゼン類の製造方法。【化1】(式中、Xはハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜4のアルコキシ基を示す)【化2】(式中、Rは水素原子またはメチル基を示し、nは0〜50までの整数である)【化3】(式中、Rは水素原子またはメチル基を示す)

IPC (6件)：

C07C 39/15 ,  B01J 31/02 103 ,  C07C 37/52 ,  C08G 59/06 NHJ ,  C08G 83/00 NUW ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (1件)

• エポキシ樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-261847   出願人：三井東圧化学株式会社