特許
J-GLOBAL ID：200903099342450492
光磁気薄膜、光磁気記録媒体、およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-052013
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267743
出願日： 1993年03月12日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【発明の名称】 光磁気薄膜、光磁気記録媒体、およびその製造方法【目的】一軸の磁気異方性を有し、かつ優れた磁気光学特性を備えた光磁気薄膜を得る。さらに記録層がそうした特徴を有する光磁気記録媒体を得る。【構成】光磁気薄膜としては、マンガン(Mn)、アンチモン(Sb)、白金(Pt)よりなる3元系合金であって、その組成がMna Sbb Ptc 、40≦a≦60、32≦b≦55、 1≦c≦20、a+b+c=100 (ただしa、b、cは原子%による組成比)であり、かつB81 型結晶構造を合金中に75体積%以上含む。および光磁気記録媒体としてはそれを記録層に用いる。さらに光磁気薄膜の製造法としては、その製膜中もしくは製膜後に、光磁気薄膜の熱処理を行う。
請求項（抜粋）：
マンガン(Mn)、アンチモン(Sb)、白金(Pt)よりなる3元系合金であって、その組成がMna Sbb Ptc 、40≦a≦60、32≦b≦55、 1≦c≦20、a+b+c=100 (ただしa、b、cは原子%による組成比)であり、かつB81 型結晶構造を合金中に75体積%以上含むことを特徴とする光磁気薄膜。
IPC (2件)：
引用特許：
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