滅菌方法及びその装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：橋本剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-017836
公開番号（公開出願番号）：特開2005-211095
出願日： 2004年01月27日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：

【課題】安定且つ効果的なオゾンガスによる滅菌処理を行なう。【解決手段】超高濃度オゾンガス発生装置1にて、酸素を原料として生成したオゾンガスを真空下にて冷却して高純度及び高濃度化した液化オゾンを生成し、この液化オゾンを気化させることにより超高濃度オゾンガスを得る。そして、この超高濃度オゾンガスを滅菌槽2にて滅菌対象物と接触させる。前記超高濃度オゾンガスは80°C以下の加温条件下にて滅菌対象物と接触させるとよい。前記超高濃度オゾンガスは滅菌槽2内の圧力が一定になるまで真空導入し、この一定圧力の状態を一定時間保持した後、前記オゾンガスを排出する工程を滅菌が達成されるまで繰り返すとよい。超高濃度オゾンガス規定圧力範囲は10kPa以下とするとよい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

超高濃度オゾンガスを滅菌対象物に接触させて滅菌対象物を滅菌処理する滅菌方法であって、酸素を原料として生成したオゾンガスを真空下にて冷却して高純度及び高濃度化した液化オゾンを生成し、この液化オゾンを気化させることにより超高濃度オゾンガスを得た後に、この超高濃度オゾンガスを減圧雰囲気で滅菌対象物に接触させることを特徴とする滅菌方法。

IPC (2件)：

A61L2/20 , A61L2/26

FI (2件)：

A61L2/20 J , A61L2/26 A

Fターム (9件)：

4C058AA12 , 4C058BB07 , 4C058CC01 , 4C058DD04 , 4C058DD06 , 4C058DD07 , 4C058EE13 , 4C058JJ14 , 4C058JJ26

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開9-271512号公報
特公平06-006144号公報
特開10-258113号公報

全件表示

審査官引用 (4件)

特開平3-244465
オゾン生成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-202921 出願人：独立行政法人産業技術総合研究所, 株式会社明電舎
定濃度オゾンの供給方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-096279 出願人：岩谷産業株式会社

全件表示

前のページに戻る