特許
J-GLOBAL ID：200903099496792442

高分散、高疎水性球状シリカ微粉体、その製造方法及び用途

発明者：
八代 尚作

八代 尚作 について

, 
渡辺 祥二郎

渡辺 祥二郎 について


出願人/特許権者：
電気化学工業株式会社

電気化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-232339
公開番号（公開出願番号）：特開2004-067475
出願日： 2002年08月09日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【課題】BET比表面積10〜50m2/gの球状シリカ粉末を高疎水性かつ高分散性に処理すること。トナー表面への粒子の埋没による画像不良をなくし、安定した印字性改善効果を与えることができるトナー外添剤を提供すること。【解決手段】BET比表面積10〜50m2/gの球状シリカ粉末がヘキサメチルジシラザンによって疎水化処理されてなるものであって、メタノール滴定法による疎水化度が65%以上で、ゆるめ嵩密度が0.25g/cm3以下であることを特徴とする高分散、高疎水性球状シリカ微粉体。球状シリカ粉末をガスで浮遊させた状態で、水の特定量を噴霧した後、更にヘキサメチルジシラザンの特定量を噴霧することを特徴とする上記高分散、高疎水性球状シリカ微粉体の製造方法。上記高分散、高疎水性球状シリカ微粉体からなることを特徴とする静電荷像現像用トナーの外添剤。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
BET比表面積10〜50m2/gの球状シリカ粉末がヘキサメチルジシラザンによって疎水化処理されてなるものであって、メタノール滴定法による疎水化度が65%以上で、ゆるめ嵩密度が0.25g/cm3 以下であることを特徴とする高分散、高疎水性球状シリカ微粉体。
IPC (3件)：
C01B33/18 ,  G03G9/08 ,  G03G9/087
FI (3件)：
C01B33/18 C ,  G03G9/08 375 ,  G03G9/08 381
Fターム (18件)：
2H005AA08 ,  2H005AB02 ,  2H005CA26 ,  2H005CB13 ,  2H005EA07 ,  2H005EA10 ,  4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB07 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072QQ07 ,  4G072RR11 ,  4G072TT04 ,  4G072TT06 ,  4G072TT30 ,  4G072UU30
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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